Kérdés a termékről
A RIE-eljárás (reaktív ionmaratás) az elektronikai és mikroelektronikai gyártásban használt száraz maratási eljárás. Alkalmazásai például a gyors és ultra magas felülettisztítás, a felületaktiválás, a fotoellenállás-eltávolítás és a félvezető maratás
Ehhez az eljáráshoz általában síklemezes reaktort használnak (lásd az 1. ábrát). A 10-2-10-1 mbar nyomású gáz atmoszféra előállítása után a gázkisülést (plazmát) rádiófrekvenciás feszültség alkalmazásával begyújtják. Az elektromos térben a könnyű elektronok és a nehézionok eltérő mozgékonysága miatt a kisebb elektródon (szubsztrát hordozó) negatív egyenfeszültség alakul ki. Ez az önelőfeszítő potenciál általában 10 és néhány száz volt között van.